【摘 要】
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采用高能微弧合金化技术,通过控制输出功率、电压、沉积时间等工艺参数,成功地在K3合金表面制备致密的Ni_3Al(Cr)超细晶合金化层.合金化层与基体之间是冶金结合、且制备过程
【机 构】
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江苏科技大学先进焊接技术省重点实验室,中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,
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采用高能微弧合金化技术,通过控制输出功率、电压、沉积时间等工艺参数,成功地在K3合金表面制备致密的Ni_3Al(Cr)超细晶合金化层.合金化层与基体之间是冶金结合、且制备过程对K3基体的热影响很小.在900℃空气中氧化400 h的结果表明,Ni_3Al(Cr)合金化层比相应的铸态Ni_3Al(Cr)电极和K3高温合金具有更好的高温氧化性能,它形成的富Al_2O_3氧化膜连续致密、粘附性良好,这得益于晶粒细化增加了短路扩散路径,降低了形成富Al氧化膜所需的临界Al含量.
The high-energy micro-arc alloying technology was used to prepare the ultrafine Ni_3Al (Cr) ultrafine-grained alloy layer on the surface of K3 alloy by controlling the process parameters of output power, voltage and deposition time etc. Metallurgy The results show that the Ni 3 Al (Cr) alloy layer is better than the corresponding as-cast Ni 3 Al (Cr) electrode and K 3 superalloy The Al 2 O 3 oxide film formed by this method is continuous and dense with good adhesion. This is due to the fact that grain refinement increases the short-circuit diffusion path and reduces the critical Al content required for the formation of an Al-rich oxide film.
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