Chemical Structure of Carbon Nitride Films Prepared by MW-ECR Plasma Enhanced Magnetron Sputtering

来源 :材料热处理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zonsun168
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Amorphous carbon nitride thin films were prepared by plasma-enhanced DC magnetron sputtering using twinned microwave electron cyclotron resonance plasma sources. Chemical structure of deposited films was investigated using X-ray photoelectron spectroscopy
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