论文部分内容阅读
采用溶胶-凝胶法、相分离及自纽装技术，以正硅酸乙酯（TEOS）为硅前体，在硅溶胶中添加聚丙烯酸（PAA）引发相分离，通过控制PAA的含量来控制相分离的程度，从而制备出表面微结构可控制的SiO2薄膜。研究了聚丙烯酸含量对薄膜表面微结构及接触角的影响。用扫描电镜（SEM）对薄膜表面进行了表征，结果表明，SiO2薄膜表面粗糙度随着聚丙烯酸含量的增加而增加。最后用三甲基氯硅烷（TMCS）进行化学气相修饰，形成TMCS自纽装单分子层，制备出接触角达158°的超疏水SiO2薄膜。