【摘 要】
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研究了用直流磁控溅射技术在 80~ 1 40目的镍基合金微粒表面包覆 1 0μm左右的金属铬膜的方法 ,讨论了工艺的影响和膜的性能 ,指出利用直流磁控溅射技术可在镍基合金微粒表面
【机 构】
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四川大学,610065;中国核动力研究设计院,610041
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研究了用直流磁控溅射技术在 80~ 1 40目的镍基合金微粒表面包覆 1 0μm左右的金属铬膜的方法 ,讨论了工艺的影响和膜的性能 ,指出利用直流磁控溅射技术可在镍基合金微粒表面获得均匀、完整的厚铬膜 ,微粒的预处理和后处理对膜的附着性有重要影响
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