【摘 要】
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本报讯记者袁斌报道8月3日,英特尔宣布在远紫外线光刻技术(EUV,用于制造未来微处理器的技术)方面取得两项重要成果。英特尔已安装了全球第一套商用EUV光刻工具,并建立了一条E
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本报讯记者袁斌报道8月3日,英特尔宣布在远紫外线光刻技术(EUV,用于制造未来微处理器的技术)方面取得两项重要成果。英特尔已安装了全球第一套商用EUV光刻工具,并建立了一条EUV掩模试产线,这表明,该技术已从研发阶段进入试用阶段。英特尔预计,EUV技术将于2009年起用于批量生产?
Reporter Yuan Bin reported August 3, Intel announced the far ultraviolet lithography (EUV, for the manufacture of the future microprocessor technology) has made two major achievements. Intel has installed the world’s first commercial EUV lithography tool and has set up a pilot production line for EUV masks, indicating that the technology has entered the trial phase from the development stage. Intel expects EUV technology will be used in mass production in 2009?
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