日本松下公司抑制常关态氮化镓晶体管的电流崩塌可达800V

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日本松下公司在栅注入晶体管结构中嵌入混合漏极,对常关态氮化镓晶体管的电流崩塌进行抑制达800V。混合漏极由一个普通漏极和一个附加的p型漏极组成,p型漏极通过在铝镓氮势垒层沉积p型氮化镓形成。两个漏极区域连接。研究人员认为其应用包括下一代高效率可靠高功率开关。氮化镓晶体管中的电流崩塌描述为与直流测试相比,当器件处于转换状态 Matsushita of Japan embedded in the gate-injection transistor structure hybrid drain, the normally-off-current gallium nitride transistor current collapse suppressed 800V. The mixed drain consists of a common drain and an additional p-type drain, which is formed by depositing p-type gallium nitride on the aluminum gallium-nitrogen barrier layer. The two drain regions are connected. Researchers believe its applications include the next generation of high-efficiency, reliable high-power switches. Current collapse in gallium nitride transistors is described as compared to DC testing when the device is in a switched state
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