CL-20降感处理技术及在CMDB推进剂中的应用

来源 :兵器装备工程学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yangzanJane
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为促进六硝基六氮杂异伍兹烷(CL-20)在推进剂中的应用,综述了 CL-20降感处理技术及其在改性双基(CM-DB)推进剂中应用的最新进展.结果表明,通过表面包覆降感技术、共晶降感技术和微纳米球形化降感技术均可有效制备出低感CL-20,但为提高低感CL-20的能量释放率,在表面包覆降感技术和共晶降感技术中应尽可能地选取含能且稳定的包覆剂和共晶配合物;微纳米球形化降感技术是制备低感CL-20较为稳定且有效的手段.将CL-20引入CMDB推进剂可以提高推进剂的能量水平,但压强指数升高、能量释放不充分和感度高,通过调整催化剂及添加Al粉可有效降低压强指数及提升能量释放率,通过低感CL-20的应用可有效降低CL-20基CMDB推进剂感度,说明CL-20在高能CMDB推进剂中具有广阔的应用前景.
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