Ta种子层厚度及溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻和矫顽力的影响

来源 :北京科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hulin99

【摘要】

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研究了Ta种子层的厚度、溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻值(△p/p)、矫顽力和织构的影响.研究表明,适当的Ta层厚度和较高的Ta层溅射速率对提高Ta/Ni65Co35双层膜

【作者】

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张辉滕蛟马纪东于广华胡强

【机构】

：

北京科技大学材料科学与工程学院,北京科技大学材料科学与工程学院

【出处】

：

北京科技大学学报

【发表日期】

：

2005年4期

【关键词】

：

Ta种子层溅射速率各相异性磁电阻矫顽力 (111)织构 Ta seed layer deposition rate anisotropic magne

【基金项目】

：

国家自然科学基金，高等学校博士学科点专项科研项目，教育部科学技术研究重点项目

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研究了Ta种子层的厚度、溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻值(△p/p)、矫顽力和织构的影响.研究表明,适当的Ta层厚度和较高的Ta层溅射速率对提高Ta/Ni65Co35双层膜的△p/p是有效的.Ta种子层的使用增大了Ta/Ni65Co35双层膜的矫顽力而其溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜矫顽力的影响很小.

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