【摘 要】
：
抓斗挖泥船的定位桩系统的升降单元常用的齿轮齿条机构可控制连续升降等优点，但其制造和维护成本高、制造困难，而销轮齿条机构具备了齿轮齿条的优点，又避免其缺点。在12方钢索抓斗挖泥船定位桩系统升降单元采用了销轮齿条机构，但国内使用销轮齿条结构转递动力的场合较少。为了验算销轮齿条结构能满足使用要求，利用SolidEdge软件对定位桩系统升降单元进行三维建模，利用有限元软件ANSYS对销轮齿条结构升降单元进
【基金项目】
：
广东省自然资源厅2020年省级促进经济高质量发展专项资金项目（编号：粤自然资合GDNRC [2020] 015号）；
论文部分内容阅读
抓斗挖泥船的定位桩系统的升降单元常用的齿轮齿条机构可控制连续升降等优点，但其制造和维护成本高、制造困难，而销轮齿条机构具备了齿轮齿条的优点，又避免其缺点。在12方钢索抓斗挖泥船定位桩系统升降单元采用了销轮齿条机构，但国内使用销轮齿条结构转递动力的场合较少。为了验算销轮齿条结构能满足使用要求，利用SolidEdge软件对定位桩系统升降单元进行三维建模，利用有限元软件ANSYS对销轮齿条结构升降单元进行应力分析。首先是基于该系统的各个部件结构参数进行说明，然后对啮合传动的整体部件进行有限元应力分析，得出各个零部件的应力分布及最大应力点。结论表明，各个部件的应力情况均能满足强度要求。齿条受力面积增大，齿条最大应力呈现下降趋势；随着销齿跨度增大，所受弯矩变大，销齿最大应力呈现上升趋势。
其他文献
建立了应用HPLC-MS/MS快速分离、鉴定草莓花色苷的方法，并对不同果色的12个草莓品种的成熟果实进行花色苷定量和定性分析，同时对比分析草莓（Fragaria × ananassa，八倍体）和森林草莓（F. vesca，二倍体）基因组中花色苷合成相关基因的数量和染色体定位，通过RNA-Seq和qRT-PCR分析它们在果实发育过程中转录水平变化。在草莓中检测到8种花色苷，包括首次检测到的芍药素–3
提出了一种基于谱残差算法的多变量时间序列异常检测方法。谱残差算法最初提出时是一种针对图像显著性检测的算法，该算法也可用于无监督时间序列的异常检测。本文从频域变换、平滑算法、去除季节性影响、阈值自适应调节等多个环节研究针对谱残差算法的改进，实验证明，本文提出的改进可以提高异常检测的准确率，去除环境因素造成的季节性影响，并且检测异常用时优于已有算法。另外，本文提出的算法可以根据实际需要，自适应调节异常
此文阐述了中央空调系统，分析了目前的运行状况，最后提出了有效的智能控制方法，在最大范围内实现中央空调系统方案的节能，为相关工作提供一定的理论指导。
随着温室效应的加剧，全球开始变暖，对二氧化碳传感器的需求更加迫切。在二氧化碳传感器中，半导体气体传感器最为常见。半导体气体传感器工作温度低、灵敏度高，但是选择性不好，而电化学型气体传感器由于其敏感电极对CO2具有特定的催化作用，从而使其选择性大大提高。与传统的传感器相比，纳米传感器可以从微观角度丰富传感器理论，最常见的纳米材料为金属氧化物。随着研究的深入，在金属氧化物中加入一些贵金属催化、利用可见
在高三复习课中,学生思考问题时普遍存在"照本宣科""沉默寡言"等现象,学习过程中缺乏深层思考和发表见解的意识。"问题"贯穿于数学课堂的始终,教师可以采用追问的方式,搭设思维跳板,帮助学生拓展思路,突破难点,活跃思维,并在更高层次上继续思考,从而让学生探索知识和方法的本源,提升思维能力。
介绍了光刻胶涂胶过程中对涂胶厚度均匀性的影响因素及发生均匀性问题的成因。对光刻工艺和光刻胶进行概述，通过对光刻工艺和光刻胶的涂胶学习可发现随着光刻工艺的不断进步，对光刻胶涂胶胶厚均匀性要求也在不断地提升，在实际的生产过程中却经常会出现涂胶均匀性较差而无法满足工艺要求。重点针对光刻胶涂胶厚度均匀性影响因素进行探究，详细介绍了会对其产生影响的因素。通过有效地管控好这些影响因素能够确保涂胶厚度均匀性，提
＜正＞“八八战略”是引领浙江长远和全局发展的总纲领、推进浙江各项工作的总方略,坚持以“八八战略”为指引是高质量发展建设共同富裕示范区的应有之义。特别是自浙江成为共同富裕示范区以来,习近平总书记从中国式现代化全局和战略高度就扎实推动共同富裕作出了一系列重要论断,极大拓展和丰富了“八八战略”的内涵外延,为纵深推进共同富裕示范区建设提供了根本遵循、指明了前进方向。
马铃薯淀粉是人类膳食能量的重要来源之一,被人体消化吸收后直接影响人体健康,由于马铃薯淀粉的品种、加工方式和自身结构的不同,以及受到外源添加物的影响,马铃薯淀粉的消化吸收会产生不同的变化。文章综述了近年来国内外关于马铃薯淀粉消化特性的影响因素研究进展,重点介绍多酚对马铃薯淀粉消化特性影响,在此基础上探讨多酚影响马铃薯淀粉消化性的机制,并提出了今后这一领域的主要研究方向,为开发马铃薯淀粉相关功能性食品
＜正＞本文基于全球专利数据库的检索，分析了国内外芯片生产制造领域的光刻胶涂覆相关技术的发展状况，并对重要申请人和本领域的核心专利技术进行研究归纳，得出了光刻胶涂覆技术的发展方向，为相关研究技术人员提供一定参考。随着新一轮产业变革的加速兴起，促使全球集成电路产业进入超级周期。我国作为世界上最大的集成电路消费市场，消费额占全球一半以上，但自给率却仅仅只有30%。而据IC Insights统计，2018