【摘 要】
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采用KrF准分子激光器，在Si，Ge光学衬底上制备了碳化硼薄膜，研究了不同激光能量、靶材与衬底距离、衬底负偏压等条件对薄膜性能的影响。利用傅里叶变换红外光谱仪（FT—IR）和纳米压
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采用KrF准分子激光器，在Si，Ge光学衬底上制备了碳化硼薄膜，研究了不同激光能量、靶材与衬底距离、衬底负偏压等条件对薄膜性能的影响。利用傅里叶变换红外光谱仪（FT—IR）和纳米压痕仪，并依据光学薄膜测试的通用标准，对样品的光学透过率、纳米硬度及膜层与衬底的结合性能进行了测试。结果表明：Si，Ge衬底单面镀碳化硼薄膜后最高透过率提高10％以上，纳米硬度提高到未镀膜的3倍以上，且膜层与衬底有较好的结合性能，表明制备的碳化硼薄膜可对光学材料起到较好的增透保护作用。
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