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193nm光刻技术延伸方法

来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hpsjsj

【摘 要】

：

介绍了提高193 nm光刻分辨力的方法,如浸入式光刻技术、相位移技术等.并介绍了193 nm浸入式光刻机的优点和前景.

【作 者】

：

翁寿松 

【机 构】

：

无锡市罗特电子有限公司

【出 处】

：

电子工业专用设备

【发表日期】

：

2004年11期

【关键词】

：

193nm光刻机 浸入式光刻机 光刻分辨力 相位移 

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介绍了提高193 nm光刻分辨力的方法,如浸入式光刻技术、相位移技术等.并介绍了193 nm浸入式光刻机的优点和前景.

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