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通过与日本样进行对比试验，研究了片式电阻保护浆料的制备工艺及要求。分析了玻璃组成和浆料配方对元件电阻值漂移的影响，并对其保护机理进行了探讨。制备的浆料达到日本样技术指标的要求。利用4号玻璃组分的1MΩ片电阻的阻值漂移率最小为0．9％
片式电阻保护浆料的制备
【摘 要】
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通过与日本样进行对比试验，研究了片式电阻保护浆料的制备工艺及要求。分析了玻璃组成和浆料配方对元件电阻值漂移的影响，并对其保护机理进行了探讨。制备的浆料达到日本样技术
【机 构】
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贵州省轻工业科学研究所
【出 处】
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电子元件与材料
【发表日期】
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2007年3期
【基金项目】
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贵州省科学技术基金资助项目【黔基合计字（2002）3030号】.
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