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采用液相法对化学气相沉积热解炭进行溴插层，插层工艺为溴炭质量比6：1，反应温度20℃，反应时间48h。采用XRD、SEM和XPS手段对制备的产物进行分析表征。结果表明：插层后，热解炭的XRD图谱有新的衍射峰出现，表明有新物质生成；SEM图显示溴元素以非单质状态均匀分布在热解炭中；XPS结果进一步证实热解炭中溴元素和碳元素为化学键键合。