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用超高真空蒸发技术在GaAs(100)和玻璃衬底上生长不同厚度Mn/Sb多层膜,并经短时间热退火(～1,20min).磁化强度测量显示具有很强的室温铁磁特性.当多层膜厚度从700A增至1600A时,饱和强度增加了近一倍,极向和纵向克尔角也增加了,但不到一倍.这表明磁化强度和克尔角两者均依赖于多层摸的厚度,但不是简单的正比于厚度的关系.增加Mn/Sb多层膜的厚度能增强饱和磁化强度和极向和纵向克尔饱和角.X射线衍射谱图结果表明高质量单晶结构的Mn/Sb多层膜能用超高真空蒸发技术生长,对较厚的多层薄膜,热退火的时间可很短(约1min).