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上海2012年10月22日电／美通社／－今年IC China（一年一度在上海举办的业内知名半导体展会和论坛）展会期间，先进的设备制造商－中微半导体设备（上海）有限公司（以下简称“中微公司”），将于本周三在上海世博展览馆，就其设计创新、技术领先的新一代刻蚀设备产品举办新闻发布会。届时，中微公司董事长兼首席执行官尹志尧博士将介绍公司产品开发的最新进展；中微公司资深技术专家将在会上介绍公司研发部门开发成功的两款新一代刻蚀设备。