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碳化硅材料被动氧化机理及转捩温度分析
碳化硅材料被动氧化机理及转捩温度分析
来源 :宇航材料工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户:pausecn
【摘 要】
:
对SiC材料的抗氧化性能进行了试验,研究了该材料的氧化机制以及由被动氧化至主动氧化的转捩温度。结果表明,SiC材料在一定的氧分压环境中,表面温度低于转捩温度时,会在表面形成Si
【作 者】
:
陈思员
姜贵庆
俞继军
欧东斌
【机 构】
:
中国航天空气动力技术研究院
【出 处】
:
宇航材料工艺
【发表日期】
:
2009年3期
【关键词】
:
抗氧化
碳化硅
转捩温度
Oxidation resistance
Silicon carbide
Transition temperature
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对SiC材料的抗氧化性能进行了试验,研究了该材料的氧化机制以及由被动氧化至主动氧化的转捩温度。结果表明,SiC材料在一定的氧分压环境中,表面温度低于转捩温度时,会在表面形成SiO2薄膜,薄膜厚度和时间的平方根成正比。表面温度高于转捩温度时材料发生主动氧化,材料表面发生烧蚀。
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