【摘 要】
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基于固着磨料加工碳化硅反射镜的微观作用原理，从理论上定量分析了金刚石磨料压入碳化硅工件的深度对材料去除率、光学元件表面粗糙度的影响，分别获得了材料去除率数学模型及粗
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室,中国科学院研究生院
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基于固着磨料加工碳化硅反射镜的微观作用原理，从理论上定量分析了金刚石磨料压入碳化硅工件的深度对材料去除率、光学元件表面粗糙度的影响，分别获得了材料去除率数学模型及粗糙度的仿真计算结果。实验与理论模型的对比结果表明：去除率实验值与理论值走势相同并稳定在同一数量级内；粗糙度实验所使用的W1．5，W3．5，W5等丸片获得的粗糙度理论值与实验偏差分别为5．97％，3．19％，3．59％，由此验证了理论分析的正确性。
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