离子注入——一种有效的表面处理

来源 :国外金属热处理 | 被引量 : 0次 | 上传用户：snow5534

【摘要】

：

<正> 引言离子注入在半导体工业中的应用已有相当长的历史,大约从60年代起离子注入就用于电子工业中的硅晶片掺杂。现已认识到与这一生产有关的最大优点是高的可控性、可靠性

【作者】

：

于加

【机构】

：

中国地质大学

【出处】

：

国外金属热处理

【发表日期】

：

1993年3期

【关键词】

：

金属表面保护离子镀

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<正> 引言离子注入在半导体工业中的应用已有相当长的历史,大约从60年代起离子注入就用于电子工业中的硅晶片掺杂。现已认识到与这一生产有关的最大优点是高的可控性、可靠性和工艺的可再现性,这是离子注入在这一领域不断成功的主要原因。早在70年代,英国Harwell原子能研究中心(AERE)率先在工业上开发离子注入以改善生产工具摩擦学性能的可能性。自那以来,已发表大量文章阐述离子注入给材料性能

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