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应用中频反应磁控溅射设备在载玻片上制备掺铈的Al2O3薄膜，在固定的电源功率下，氩气流量为23sccm，氧流量为5sccm，室温下溅射时间为90min的条件下，通过控制薄膜中的Ce^3＋离子的掺杂量来改变薄膜的发光性能。通过X光能量散射谱（EDS）和光致发光测量，得到发光强度和发光峰位对薄膜中的Ce^3＋浓度有强烈的依赖关系，并且分析了产生这种关系的原因；对发光激发谱分析表明，薄膜发光是源于薄膜中形成的氯化铈集合体中的Ce^3＋。Al2O3：Ce^3＋发光膜可应用于需要蓝光发射的平板显示领域．