【摘 要】
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采用阴极弧沉积、中频磁控溅射及二者的复合技术在GCr15基底上制备了TiN涂层。通过扫描电镜、XRD谱、微米划痕测试、硬度测试以及摩擦磨损测试对涂层的组织结构和力学性能进
【机 构】
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大连理工大学,北京航空工业制造研究所高能束流加工技术重点实验室,
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采用阴极弧沉积、中频磁控溅射及二者的复合技术在GCr15基底上制备了TiN涂层。通过扫描电镜、XRD谱、微米划痕测试、硬度测试以及摩擦磨损测试对涂层的组织结构和力学性能进行了表征及对比。结果表明,采用复合磁控阴极弧技术制备的TiN涂层具有较好的综合性能,如较光滑的表面、较高的结合力和硬度,故磨损率较低。
TiN coating was prepared on GCr15 substrate by cathodic arc deposition, medium frequency magnetron sputtering and the combination of the two. The microstructure and mechanical properties of the coatings were characterized and compared by scanning electron microscopy, XRD, micrometer scratch test, hardness test and friction and wear test. The results show that the TiN coating prepared by the composite magnetron cathodic arc technique has better comprehensive properties, such as smoother surface, higher cohesion and hardness, so the wear rate is lower.
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