【摘 要】
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通过改变硅靶功率,采用非平衡磁控溅射法制备了不同Si含量的ZrSiN薄膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪、热重分析仪、纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和三维形貌仪研究了薄
【基金项目】
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国家自然科学基金(51574131,51374115)
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通过改变硅靶功率,采用非平衡磁控溅射法制备了不同Si含量的ZrSiN薄膜。采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪、热重分析仪、纳米压痕仪、摩擦磨损试验机和三维形貌仪研究了薄膜的微观结构、成分、表面形貌、抗氧化性、力学性能,以及室温和高温下的摩擦磨损行为。ZrSiN薄膜为面心立方结构。随着Si含量的增加,薄膜的显微硬度先减小后增大。适量Si元素的加入可以在一定程度上改善ZrN薄膜与304不锈钢基体的结合力,以及提高其抗氧化性。室温（25°C）下,随着Si含量增加,薄膜的摩擦因数稳定在0.8左右,磨损率
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