论文部分内容阅读
本文对光刻腐蚀法、光刻镀(涂)层法、镀层腐蚀法、双镀层法等多种高温栅制作工艺进行了详细的讨论,对它们的适用范围及所制光栅的质量控制因素进行了分析,首次提出了多介质镀层法制作高温光栅的新工艺,并成功地制作出可耐1000℃的多介质镀层高温栅,高温氧化实验结果表明,多介质高温栅具有较好的抗氧化能力。