【摘 要】
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研究了用反应离子刻蚀技术制作Ｇｅ材料微透镜列阵的工艺过程及影响透镜列阵质量的因素，总结出“小功率、中气流、掺氧气”的优化工艺特点，制作出衍射效率高于８５％的八台阶Ｇｅ材料菲涅尔微
【机 构】
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四川大学物理系,中国科学院光电技术研究所
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研究了用反应离子刻蚀技术制作Ｇｅ材料微透镜列阵的工艺过程及影响透镜列阵质量的因素，总结出“小功率、中气流、掺氧气”的优化工艺特点，制作出衍射效率高于８５％的八台阶Ｇｅ材料菲涅尔微透镜列阵．
The process of fabricating Ge material microlens array by reactive ion etching and the factors influencing the quality of lens array are studied. The optimized process characteristics of “low power, medium air flow and oxygen-doped gas” are summarized, and the diffraction efficiency is higher than Eighty-five percent of the eight stages of Ge Fresnel microlens arrays.
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