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多弧离子镀技术是基于阴极弧光放电原理提出的一种新型真空沉积技术．文章对该技术的特点、发展现状及其应用情况作了简单介绍，着重分析了该技术中真空弧光放电的过程并提出了放电的热－场致电子发射模型，在此基础上给出了稳定放电过程的方法
多弧离子镀技术中的真空放电过程
【摘 要】
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多弧离子镀技术是基于阴极弧光放电原理提出的一种新型真空沉积技术．文章对该技术的特点、发展现状及其应用情况作了简单介绍，着重分析了该技术中真空弧光放电的过程并提出了放
【机 构】
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东南大学物理系,东南大学电子工程系
【出 处】
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物理
【发表日期】
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1997年07期
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