一种新颖的基于离子束刻蚀的纳米沟道制备技术

来源 :传感技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：selanyihao

【摘要】

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研究了一种新颖的基于MEMS工艺中离子束刻蚀的纳米沟道制备技术，通过研究离子束刻蚀微米级线条时，离子束刻蚀角度与刻蚀的轮廓形状之间的关系，在2μm线条内刻蚀出纳米沟道所需要

【作者】

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史明甫焦继伟包晓清冯飞杨恒李铁王跃林

【机构】

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中国科学院研究生院,上海微系统与信息技术研究所传感器技术联合国家重点实验室

【出处】

：

传感技术学报

【发表日期】

：

2006年05A期

【关键词】

：

微/纳机械系统纳米沟道离子束刻蚀 MEMS/NEMS nanogroove Ion beam etching

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研究了一种新颖的基于MEMS工艺中离子束刻蚀的纳米沟道制备技术，通过研究离子束刻蚀微米级线条时，离子束刻蚀角度与刻蚀的轮廓形状之间的关系，在2μm线条内刻蚀出纳米沟道所需要的掩模图形，并结合KOH的各向异性腐蚀，成功获得了纳米沟道阵列。在两种不同的离子束刻蚀条件下，在2μm图形内分别制备出单纳米沟道和双纳米沟道，最小宽度可达440nm．

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