【摘 要】
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采用大功率、高重复频率、准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了直流辉光氢等离子体处理对类金刚石膜的场发射性能的影响。结果表明：氢等离子体处理后,类金刚石膜
【机 构】
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牡丹江师范学院物理系,上海大学材料科学与工程学院,吉林大学超硬材料国家重点实验室
【基金项目】
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基金项目：黑龙江省科技攻关项目（GC06A213）, 牡丹江市科技攻关项目（G2008G0037）~~
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采用大功率、高重复频率、准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了直流辉光氢等离子体处理对类金刚石膜的场发射性能的影响。结果表明：氢等离子体处理后,类金刚石膜的场发射性能明显提高,其发射阈值电场由26V/μm下降到19V/μm。氢等离子体刻蚀除去了类金刚石膜生长表面的富含石墨的薄层,露出的新表面具有较低的功函数;膜表面的悬键被氢原子饱和,进一步降低了电子亲和势,改善了膜的场发射性能。
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