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LED集成度越来越高,集成电路线宽不断收窄,对硅衬底表面的质量提出了越来越严苛的要求,抛光片表面质量对器件制造有重要影响。RCA清洗是晶片清洗最为成熟的工艺,其工艺稳定性受到多重因素影响。从DHF溶液使用及PFA花篮质量两方面分析了RCA清洗过程的两个关键因素对晶片表面质量的影响。
单晶硅抛光片表面质量探究
【摘 要】
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LED集成度越来越高,集成电路线宽不断收窄,对硅衬底表面的质量提出了越来越严苛的要求,抛光片表面质量对器件制造有重要影响。RCA清洗是晶片清洗最为成熟的工艺,其工艺稳定性
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2016年8期
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