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探讨了在电子元器件破坏性物理分析（DPA）中，如何利用扫描电子显微镜（SEM）的高分辨、景深深、放大倍数高和立体感强等一系列技术特点，对微电子器件的互连金属化层异常缺陷进行定位观察、成像和分析的技术。实践证明．SEM可以很好地解决光学显微镜无法解决的一些技术同题，可以提高DPA结果的准确性。
SEM在电子元器件破坏性物理分析中的应用
【摘 要】
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探讨了在电子元器件破坏性物理分析（DPA）中，如何利用扫描电子显微镜（SEM）的高分辨、景深深、放大倍数高和立体感强等一系列技术特点，对微电子器件的互连金属化层异常缺陷进行定位观
【机 构】
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信息产业部电子第五研究所
【出 处】
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电子产品可靠性与环境试验
【发表日期】
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2006年4期
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