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化学气相沉积（CVD））金刚石薄膜优异的光学性能在近几年得到了广泛的重视，关于它的研究也在近几年取得了较大的突破。综述了CVD金刚石薄膜的光学性能，着重从成核、生长和后期处理三个方面对光学级CVD金刚石薄膜的制备进行了讨论，并对今后的研究作了展望。
化学气相沉积光学级金刚石薄膜的研究进展
【摘 要】
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化学气相沉积（CVD））金刚石薄膜优异的光学性能在近几年得到了广泛的重视，关于它的研究也在近几年取得了较大的突破。综述了CVD金刚石薄膜的光学性能，着重从成核、生长和后期处理三
【机 构】
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武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
【出 处】
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激光与光电子学进展
【发表日期】
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2006年7期
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