【摘 要】
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以对甲基苯磺酸钠（p-TSNa）为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯（PPy）修饰膜,采用循环伏安法在-1.6-0.8V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH电解质溶液中的氧化还
【机 构】
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大连交通大学环境与化学工程学院,大连理工大学环境科学与工程系
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以对甲基苯磺酸钠（p-TSNa）为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯（PPy）修饰膜,采用循环伏安法在-1.6-0.8V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH电解质溶液中的氧化还原行为.结果表明,在H2SO4溶液中,以H＋的脱出（氧化）/嵌入（还原）为特征,并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰.在Na2SO4和NaOH溶液中,以Na^＋的脱出（氧化）/嵌入（还原）峰为特征.FT-IR吸收光谱显示,经NaOH处理后,聚吡咯膜的长共轭结构被完全破坏,而经H2SO4和Na2SO4处
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