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阐述了计算机模拟在射频等离子体薄膜沉积技术中的重要地位，总结了几种常用的模拟方法并比较了各种方法的利弊和适用范围，展望了该技术发展的趋势。
射频等离子体沉技术计算机模拟研究现状
【摘 要】
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阐述了计算机模拟在射频等离子体薄膜沉积技术中的重要地位，总结了几种常用的模拟方法并比较了各种方法的利弊和适用范围，展望了该技术发展的趋势。
【机 构】
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材料科学工程系
【出 处】
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信息与开发
【发表日期】
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1996年2期
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