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本文讨论了如何在光电基础材料（水平砷化镓单晶）生长过程中进行缺陷（位错密度）控制，通过控制熔区的长度，使单晶的生长过程更趋稳定，和控制生长界面的形状以及界面处的沮度梯度，减少了位错的产生和增殖。采取以上措施可以在一定程度上降低位错密度。
光电基础材料缺陷的研究
【摘 要】
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本文讨论了如何在光电基础材料（水平砷化镓单晶）生长过程中进行缺陷（位错密度）控制，通过控制熔区的长度，使单晶的生长过程更趋稳定，和控制生长界面的形状以及界面处的沮度梯度，减少了
【出 处】
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广播电视信息
【发表日期】
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2006年11期
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