PMIA/蒙脱土纳米复合薄膜的制备与性能研究

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采用经十六烷基三甲基溴化铵有机改性的钠基蒙脱土(Na—OMMT)对间位芳香族聚酰胺(PMIA)进行改性,并采用刮涂法制得PMIA/Na-OMMT纳米复合薄膜,对复合薄膜的形貌结构及性能进行了表征。结果表明:当Na—OMMT质量分数小于等于1.5%时,Na—OMMT在PMIA基体中的分散性较好;当Na—OMMT质量分数为1.5%时,PMIA/Na—OMMT纳米复合薄膜的电压击穿强度为106.48kV/mm,比纯PMIA薄膜提高了26.73%,表面电阻率为1.25×10^14Ω,体积电阻率为7.86
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