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高纯电子铝箔在HCl-H2C2O4中的电解腐蚀行为
高纯电子铝箔在HCl-H2C2O4中的电解腐蚀行为
来源 :新技术新工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liuj_csip
【摘 要】
:
在HCl-H2C2O4中电解高纯低压电子铝箔,控制合适的电解温度、[Cl-]含量、[Al3+]/[H+]比值及一定的腐蚀电量,可获得较高质量的电解电容器用电极箔.
【作 者】
:
殷禄华
王建中
【机 构】
:
南通三圣石墨设备科技有限公司,江苏中联科技集团
【出 处】
:
新技术新工艺
【发表日期】
:
2004年2期
【关键词】
:
高纯电子铝箔
HCl-H2C2O4
电解腐蚀
电解电容器
low voltage Al foil
H_2C_2O_4
electrochemical corro
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在HCl-H2C2O4中电解高纯低压电子铝箔,控制合适的电解温度、[Cl-]含量、[Al3+]/[H+]比值及一定的腐蚀电量,可获得较高质量的电解电容器用电极箔.
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