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利用交流磁控溅射法，在H2中采用Fe3O4靶材，成功制备了（111）取向的Fe3O4薄膜．对薄膜样品进行XRD测试，研究不同衬底温度对成相的影响．对薄膜表面的XPS测试结果表明所制备薄膜为单相Fe3O4，沉积过程中随H2量增大，薄膜表面粗糙度有显著增加．对薄膜进行磁学性能的测试，饱和磁化强度高达50000e，反映了反相晶粒边界（APBs）的存在，Tv以下较低的晶格对称度导致了矫顽场的增大，薄膜的电阻随温度变化曲线（R—n显示115K附近出现Verwey相变，对R—T曲线的拟和结果显示，Fe3O4；薄膜在4