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建立了非晶态化学镀NiP原子沉积过程计算机模拟模型,用Monte Carlo方法对原子沉积过程进行了二维(2D)计算机模拟.结果表明,吸附原子的迁移概率及最大迁移距离S对镀层的显微孔隙有显著的影响.随着吸附原子迁移概率的增加(k减小)及最大迁移距离S的增大,吸附原子有更大的概率迁移到配位数较多的位置处沉积,即原子填充空穴及孔隙的机会多,镀层孔隙率低.