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介绍了二元光学方法制作多台阶衍射微透镜的设计和工艺过程；分析了台阶侧壁倾斜对衍射效率的影响；提出了一种基于软刻蚀技术的复制和集成新工艺。实际制作了8台阶硅衍射微透镜阵列，利用新工艺复制了硅衍射透镜阵列。
硅衍射微透镜阵列的制作技术研究
【摘 要】
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介绍了二元光学方法制作多台阶衍射微透镜的设计和工艺过程；分析了台阶侧壁倾斜对衍射效率的影响；提出了一种基于软刻蚀技术的复制和集成新工艺。实际制作了8台阶硅衍射微透镜
【机 构】
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毕中科技大学光电子工程系,重庆光电技术研究所
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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2005年B03期
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