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采用脉冲激光沉积（PLD）技术，在不同环境压强下于室温Si衬底上沉积制备出了Ge纳米薄膜。用x射线衍射仪（xRD）和扫描电子显微镜（SEM）研究了环境压强对薄膜的微观结构、形貌以及膜厚的影响规律。结果表明：所制备的纳米薄膜中Ge均为晶态；随着环境压强的增大，薄膜表面由常规的量子点镶嵌结构演变为类网状结构；膜厚随着环境压强的增大而减小。