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以水玻璃为主要原料、采用多次生长法,低zeta电位生长、高电位陈化等控制过程,生产出具有不同粒径、稳定的碱性单分散硅溶胶产品,并实现120nm大粒径硅溶胶生长可控,突破生长大粒径的难题。并采用离子交换法对产品进行处理,使其金属离子含量降到10-6级,符合微电子工业对相关耗材的要求。
化学机械抛光用SiO2研磨料的制备及其后处理
【摘 要】
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以水玻璃为主要原料、采用多次生长法,低zeta电位生长、高电位陈化等控制过程,生产出具有不同粒径、稳定的碱性单分散硅溶胶产品,并实现120nm大粒径硅溶胶生长可控,突破生长
【机 构】
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河北工业大学微电子研究所
【出 处】
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电子器件
【发表日期】
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2005年03期
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