基于投影寻踪模型的企业文化测量研究

来源 :黑龙江八一农垦大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:nofengy
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以我国家电企业为研究对象,在结合实际的基础上,对我国企业文化的测量作了具体的分析和研究,采用投影寻踪模型得出最佳投影方向,以此来判断各评价指标对综合评价目标的影响程度和方向,最终得出投影指标值从大到小的排序。为企业文化的测量提供了一种新的方法。
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