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分析了双玻璃晒架系统所具有的优越性能，通过大量实验，得出了所设计的双玻璃晒架系统能够实现底片吸附功能，而且重复对位精度达到±12．5μm，最后展望了双玻璃晒架的美好前景。
基于双玻璃晒架系统的对位精度的设计
【摘 要】
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分析了双玻璃晒架系统所具有的优越性能，通过大量实验，得出了所设计的双玻璃晒架系统能够实现底片吸附功能，而且重复对位精度达到±12．5μm，最后展望了双玻璃晒架的美好前景。
【机 构】
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西南科技大学信息工程学院
【出 处】
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印制电路信息
【发表日期】
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2006年2期
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