离子辅助沉积对Nb2O5薄膜特性的影响

来源 :浙江大学学报(工学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：liyanxia8521

【摘要】

：

为了提高Nb2O5薄膜的聚集密度,改善氧化铌薄膜的光学特性和机械特性,采用霍尔源离子辅助沉积(IDA)技术在K9玻璃基板上制备了Nb2O5单层薄膜,并与常规沉积条件下制备的Nb2O5薄

【作者】

：

张德景李明宇顾培夫

【机构】

：

浙江大学

【出处】

：

浙江大学学报(工学版)

【发表日期】

：

2004年10期

【关键词】

：

Nb2O5薄膜离子辅助沉积聚集密度附着力 Adhesion Ion beam assisted deposition Mechanical propert

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为了提高Nb2O5薄膜的聚集密度,改善氧化铌薄膜的光学特性和机械特性,采用霍尔源离子辅助沉积(IDA)技术在K9玻璃基板上制备了Nb2O5单层薄膜,并与常规沉积条件下制备的Nb2O5薄膜作了比较.由于IAD技术使Nb2O5膜的聚集密度提高了14%,膜层折射率从常规工艺的2.03上升到2.18,膜层的附着力和牢固度从常规工艺的1.0×107N/m2提高到129.7×107N/m2.

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