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光刻一般被认为是每代半导体器件的关键技术.几十年来光学投影光刻是大批量生产集成电路光刻技术的最好选择,目前普遍认为光学系统的掩模技术的改进将会使其扩展至100 nm最小刻线区.
极紫外光刻
【摘 要】
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光刻一般被认为是每代半导体器件的关键技术.几十年来光学投影光刻是大批量生产集成电路光刻技术的最好选择,目前普遍认为光学系统的掩模技术的改进将会使其扩展至100 nm最小
【出 处】
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激光与光电子学进展
【发表日期】
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2000年2期
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