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CDC（He+SiH4)是为HL－1M装置研制的一种常规壁处理技术。在He辉光等离子体作用下，通过气相中的电子碰撞离解，电离，离子－分子反应和在壁面上的He^+诱导脱H2过程，一种无定形的，半透明的，致密的氢化硅（α-Si:H)薄膜被沉积在清洁的真空壁表面。在托卡马克放电中，硅化壁的特点是有良好的H（D）捕获得，H2（D2）释放和低再循环性能，强的控制杂质能力和较长的寿命时间，结果显著地拓宽了等离子体密度ne,持续时间Tp和能量约束时间τE等的运行范围。自1996年以来，它成功地演证LHCD，ICRH，E