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用火焰水解法在单晶Si片上沉积了掺Ge的SiOz(GeO2-SiO2)粉末，随后在高温炉中将此粉末烧结成玻璃．用光学显微镜观察了样品表面形貌，研究了不同的烧结工艺对样品形貌的影响．用X射线光电子能谱检测了样品的元素组成，并用棱镜耦合法测量了样品的折射率和厚度．结果表明，用适宜的工艺条件制备出的掺Ge的SiO2具有表面平整光滑，折射率和厚度可调等优点，适合用作Si基SiO2波导器件的芯层．