【摘 要】
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用硅烷偶联剂KH-560对纳米SiO2样品表面进行接枝改性研究。考察了纳米SiO2的用量、KH-560百分含量、改性温度以及改性时间对改性效果的影响。采用红外光谱、热重分析手段对表
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用硅烷偶联剂KH-560对纳米SiO2样品表面进行接枝改性研究。考察了纳米SiO2的用量、KH-560百分含量、改性温度以及改性时间对改性效果的影响。采用红外光谱、热重分析手段对表面改性前后的纳米SiO2进行表征。纳米SiO2最佳工艺改性条件:纳米SiO2用量4%,KH-560百分含量2%,改性温度90°C,改性时间6 h。
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