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对比了目前常用的三种用54HC电路制作工艺制作的MOS电容的总剂量辐射实验结果,并从微观氧化物电荷、界面态的感生变化及其界面态的能量分布变化等角度,研究了在不同制作工艺条件下,54HC电路Si/SiO2系统总剂量辐射损伤特性。
Si/SiO2系统的总剂量辐射损伤及辐射感生界面态的能级分布
【摘 要】
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对比了目前常用的三种用54HC电路制作工艺制作的MOS电容的总剂量辐射实验结果,并从微观氧化物电荷、界面态的感生变化及其界面态的能量分布变化等角度,研究了在不同制作工艺
【机 构】
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中国科学院新疆理化技术研究所
【出 处】
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核电子学与探测技术
【发表日期】
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2006年3期
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