LiNbO3/ZnO:Al集成结构的外延生长及电性能研究

来源 :电子元件与材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:eworld5008
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采用脉冲激光沉积(PLD)法在蓝宝石衬底上先后外延生长了ZnO:Al(ZAO)和LiNbO3(LN)薄膜。通过X射线衍射分析(XRD)可知二者之间的外延关系为:LN(001)//ZAO(001)、LN[110]//ZAO[1^-10]、LN[100]//ZAO[1^-20]。制备了Au/LN/ZAO和ZAO/LN/ZAO两种电容器结构,对其进行了电流.电压(J-E)测试和铁电(P-E)分析,结果表明:LN/ZAO集成结构具有整流作用,ZAO/LN/ZAO结构表现出较好的绝缘性能,所制备的LN薄膜在室温下的
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