X射线照射对EL—4细胞内NF—κB的DNA结合活性的影响

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通过电泳移动变化分析(EMSA)及免疫组织化学(IHC)的方法分别检测了2 Gy和0.075 Gy X射线照射的EL-4细胞内转录因子NF-κB的DNA结合活性的时程变化和p65亚基胞浆胞核分布情况及NF-κB抑制因子IκBα水平的时程变化.结果表明, 2 Gy和0.075 Gy X射线照射均可诱导NF-κB p50/p50和p50/p65的DNA结合活性增强,但两种二聚体在两种剂量照射后的结合活性比值不同.0.075 Gy照射诱导p50/p65活性增强为主,2 Gy照射诱导p50/p50活性增强为主.2
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