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本文主要讨论Ａｌ配线可靠性的控制方法及溅射过程中真空度对Ａｌ膜淀积质量的影响，运用Ｑ－Ｍａｓｓ监控溅射过程系统基本真空控制Ａｌ膜质量。
VLSI制作过程中Al配线可靠性控制
【摘 要】
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本文主要讨论Ａｌ配线可靠性的控制方法及溅射过程中真空度对Ａｌ膜淀积质量的影响，运用Ｑ－Ｍａｓｓ监控溅射过程系统基本真空控制Ａｌ膜质量。
【机 构】
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华越微电子有限公司
【出 处】
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电子器件
【发表日期】
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2000年3期
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